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关键词： 化工出版社   重点书   化学品   化学修复技术   化学信息学   有机合成   化学合成   芳烃   分子机器   分子器件   电子器件  

关键词： 净化催化剂   合成气   发展趋势   净化工艺   净化处理   酸性气体   原料气   有机合成  

摘要： 合成气的净化研究一般集中在对合成的原料或原料气的净化以及净化工艺方面。制取甲醇、氨合成、制氢及其它有机合成等所用催化剂都具有很高的活性和选择性，但它们对诸如硫、氯、砷、氧等毒物十分敏感。为了确保催化剂的活性和寿命，达到经济合理的生产，就必须严格控制原料或合成气的纯度，对原料中的微量杂质进行净化处理。由于各种合成工艺对原料气的净化要求不同，因此采用的净化工艺也有所不同。对于大量的酸性气体通常采用溶剂法（湿法）来脱除，而对原料气体中微量的硫、氯、氧、砷、氮化物等有毒有害杂质进行深度的净化处理时，多采用固体净化剂加以脱除。

关键词： 有机合成路线   潜在官能团   前官能团  

摘要： 从潜在官能团作为前官能团的角度来分析潜在官能团策略在有机合成路线设计中的应用,结合有机化学教学中涉及的相关内容进行探讨.

关键词： 高分子负载催化剂   有机合成化学   催化化学   非均相反应   有机催化反应   化学反应   设计   应用   均相催化反应   合成过程  

关键词： 2-庚酮   有机合成   KF-Al2O3   碳-碳烷基化  

摘要： 研究了用KF-Al2O3作催化剂,正溴丁烷与乙酰乙酸乙酯的化学反应,以正丁基取代乙酰乙酸乙酯中的α-H,实现了碳—碳烷基化反应,合成了正丁基乙酰乙酸乙酯,再经水解脱羧制得2-庚酮,收率为72.5%,比常规醇钠法制得2-庚酮的收率提高了14.5个百分点。

关键词： 叔膦   催化剂   有机合成反应   偶极离子  

摘要： 本文工作是以叔瞵为有机亲核催化剂开展的一些反应方法学研究。\n 主要工作是从我们小组以前发现的叔膦-联烯加成产生的偶极离子出发进行的。我们还发现2-亚甲基-3-苯基-3,4-环氧丁酸乙酯在三苯基膦催化下也可以和贫电子烯烃加成。\n 1.三苯基膦催化的三组分一锅反应\n 我们发现在三苯基膦催化下，联烯酸乙酯可以与3-苯基-2-氰基丙烯腈发生[3+2]反应，和原先的[3+2]反应比较，这里使用了β取代的烯烃，使得反应产物的复杂性增加。因为反应体系中可以发生Knoevenagel反应，我们发现醛、丙二腈和联烯酸乙酯可以在三苯基膦催化下下反应，给出联烯和亚烷基丙二腈的[3+2]反应产物。这个三组分一锅反应的发现简化了[3+2]反应的实验操作，各种芳醛和杂芳醛都能顺利反应。\n 2.三苯基膦催化下四取代烯烃与联烯酸酯的反应\n 在前面反应的基础上，我们又尝试了β，β二取代的烯烃。发现3-苯基-2-氰基-2-烯丁腈也可以顺利与联烯酸酯反应，但反应模式不再是我们熟悉的联烯提供三个烯碳和烯烃的两个烯碳加成的[3+2]反应，而是3-苯基-2-氰基-2-烯丁腈的2,3,4三个碳原子与联烯的β,γ两个碳原子发生了加成反应。\n 3.手性膦的合成与不对称[3+2]反应\n 从BINOL出发我们以9步12％的产率合成了一个手性膦，并以它为催化剂进行了联烯酸酯和贫电子亚胺的[3+2]反应，取得了中等的不对称诱导结果。\n 4.一种新的适合叔膦催化反应的底物\n 我们发现在三苯基膦作用下2-亚甲基-3-苯基-3,4-环氧丁酸乙酯可以发生环氧的开环，如果有适当的试剂来猝灭生成的中间体就可以进一步反应，亚烷基丙二腈类型的高度贫电子的烯烃或潜亲核试剂都是这里合适的底物。有趣的是，与2-亚甲基-3-苯基-3,4-环氧丁酸乙酯反应时，亚烷基丙二腈分子中的碳碳双键会在反应中发生断裂。

关键词： 有机合成   四硝基二(α-叠氮丙酰基)六氮杂异伍兹烷   酰化   硝解   叠氮化反应  

摘要： 以四乙酰基二苄基六氮杂异伍兹烷(TADB IW)为原料,通过钯催化氢解、乙酰基六氮杂异伍兹烷α-氯丙酰氯酰化、硝硫混酸硝解等步骤得到含TNDCP IW的混合物,将叠氮化反应产物经柱色谱分离得到目标产物四硝基二(α-叠氮丙酰基)六氮杂异伍兹烷(TNDAP IW)。用红外光谱、核磁共振及元素分析表征中间体及目标产物的结构。对TA IW的酰化机理以及N-酰化衍生物的硝解、叠氮化反应机理进行了讨论。结果表明,由于TA IW的笼形结构和酰基的拉电子效应,需要较强的酰化剂(如氯丙酰氯)进行酰化反应;在硝化反应中,若硝化剂的硝解能力太强,就会把TADCP IW硝解成HN IW,因此需选择合适的硝化剂;由于TNDCP IW叠氮化反应是SN2反应,采用非质子偶极溶剂(如DM F和DM SO)有利于反应的进行。

关键词： 半导体材料   稠环芳烃   有机合成   关环反应  

摘要： 本文介绍了有机场效应晶体管所用半导体材料的研究进展以及噻吩、稠环芳烃类化合物的合成和应用。在此基础上设计合成了一系列结构新颖的硫杂稠环芳烃化合物，并对这些化合物进行了基本的表征。这些硫杂稠环芳烃化合物的合成路线包括：噻吩取代的炔烃的合成，利用噻吩取代的炔烃和2，5-二乙基-3，4-二苯基环戊二烯酮发生Diels-Alder反应合成多芳环取代的芳环，然后通过分子内氧化关环反应，构筑环数不等的稠环芳烃体系。这些新化合物的结构得到了核磁和质谱的确认。此外还通过它们的紫外-可见吸收光谱和荧光光谱研究这些稠环芳烃结构与化学性质的关系。

关键词： 氨基甲叉二膦酸   氮氧化物   水处理剂   有机合成   缓蚀阻垢剂   污水处理  

摘要： 氨烷基膦酸具有重要的生物活性，被广泛地应用于医药、农业、生命科学等领域。同时，它还是一类理想的缓蚀阻垢剂，广泛地应用于工业水处理中。\n 氨烷基膦酸的氮氧化物常被作为污水处理中的脱色剂，也被应用于半导体晶片的表面处理。另外，还具有缓蚀阻垢性能，对氯有较好的稳定性而被用于水处理工业。目前，国内外研究较多的是乙醇胺二膦酸类的氮氧化物，而对氨烷基膦酸类氮氧化物的研究较少。\n 本文在对水处理剂的种类、作用机理以及国内外发展现状进行详细综述的基础上，研究了N，N-二甲基氨基甲叉二膦酸及其氮氧化物的合成方法及其缓蚀阻垢性能。同时，在相同条件下与常用的有机膦酸水处理剂HEDP和ATMP在阻碳酸钙、硫酸钙、磷酸钙能力、对氢氧化锌分散性、对氯的耐氧化分解能力、钙容忍度以及缓蚀性能等方面作了比较。\n 以二甲基甲酰胺、三氯化磷和亚磷酸为原料合成了有机二膦酸——N，N-二甲基氨基甲叉二膦酸（DMMP）。合成N，N-二甲基氨基甲叉二膦酸的传统方法耗时较长，中间过程需减压蒸馏，本文对此进行了改进，一步合成目标产物，缩短了合成时间。详细研究了原料配比、温度、时间、水解用水量等条件对目标产物收率的影响。结果表明：n(DMF)∶n(PCl3)∶n(H3PO3) =1∶1∶1.5 、反应温度为70℃、反应时间为30min、每水解1mol 产物水的用量为400mL。用乙醇为溶剂析出产物时，目标产物的收率可达81.1％（以DMF计）。用乙醇/水的混合溶液重结晶，熔程为248-249 ℃。通过有机膦含量分析、IR、31P-NMR和1H-NMR对产物进行了结构鉴定，并用X射线单晶衍射法确定了N，N-二甲基氨基甲烷二膦酸一水合物的单晶结构。此化合物晶体为斜方晶系、Pca21空间群，晶胞参数为：a=1.2837(3)nm，b=0.7285(15)nm，c=1.0135(2)nm，α = β = γ = 90o，V=0.9478(3)nm3，Z=4，F(000)=496，最终偏差因子R1 = 0. 0319，wR2 = 0. 0842。 \n 以合成的二甲基氨基甲叉二膦酸为原料，双氧水为氧化剂，研究了二甲基氨基甲叉二膦酸氮氧化物（DMMPO）的合成方法，并通过单因素实验，得到合成DMMPO的最佳反应条件是：n(DMMP)∶n(H2O2) =1∶3，于75℃下反应2.5h，并控制pH值为9左右。在此条件下合成的DMMPO，其静态阻垢效果最好。通过IR和31P-NMR对产物的结构进行了表征，同时对产品进行了活性物含量、亚磷酸根和磷酸根含量的测定，直接合成产物中活性组分含量为22.7％，亚磷酸根和磷酸根含量均小于0.1％。 \n 用静态阻垢法对二甲基氨基甲叉二膦酸及其氮氧化物进行了阻垢性能的研究，并与HEDP和ATMP进行了比较，综合性能上有明显的优势。浓度为10mg/L时，DMMP和DMMPO对碳酸钙的阻垢率分别为90.6％和92.5％。DMMP药剂量为20mg/L时，对磷酸钙的抑制能力达到92.9％；50mg/L时对氢氧化锌的抑制能力达到91.3％。在相同浓度下，DMMPO对磷酸钙垢的阻垢率和对氢氧化锌的抑制能力分别为100％和92.2％。另外，DMMPO对氯有较强的耐氧化分解能力，在活性氯含量为40mg/L的水样中，DMMPO的分解率为零，可以和含氯的杀生剂复配使用；而DMMP的分解率为43％。两者都具有很高的钙容忍度，投加浓度大于200mg/L的情况下，仍未有沉淀出现。\n 利用旋转挂片失重法研究了DMMP和DMMPO的缓蚀性能，并与HEDP和ATMP做了比较。DMMP和DMMPO都有较好的缓蚀能力，优于HEDP和ATMP。投加浓度为20mg/L时，DMMP的缓蚀率为80.1％，DMMPO的缓蚀率为85.