关键词:
功率开关应用
AlN/p-GaN栅
击穿机理
双向阻断器件
单粒子效应
摘要:
GaN材料具有高禁带宽度、高电子迁移率、高热导率、较好的化学稳定性等优势,因此GaN基HEMT电力电子器件在功率开关应用中具备高耐压、低损耗、高开关速度、高温特性好、抗辐照效应好等特点,但是目前面向功率开关应用的GaN器件并未完全发挥出其特性优势,主要体现在:1)p-GaN结构的GaN器件已经逐步商业化,但是仍然存在阈值电压和栅摆幅较低的问题,导致栅驱动设计的复杂性且器件难以应用于栅驱动信号噪声大的环境中,限制了 GaN基HEMT器件在功率开关中的广泛应用;2)目前GaN材料体系的击穿特性已得到充分挖掘,但是基于GaN器件的功率开关应用主要集中在100/300/650 V的中低压级别,在高压级别的功率开关领域应用较少;3)应用于双向功率开关领域的GaN器件的报道较少,且器件的反向阻断电压不超过-1000 V,远未发挥出GaN材料的耐高压优势;4)p-GaN结构的GaN器件已经广泛应用于民用市场,但是单粒子效应仍然是制约GaN器件在太空环境中应用的关键问题,此外GaN器件的一些高温特性问题还没有得到深入研究。针对上述4个问题,本文对面向功率开关应用的新型GaN基HEMT电力电子器件展开深入研究。创新性地提出一种新型的AlN/p-GaN复合栅结构提高GaN器件的阈值电压和栅耐压,并且深入研究了该器件的栅可靠性和阈值电压稳定性。在p-GaN上方原位生长10nm厚的单晶AlN介质层,AlN介质层的作用有如下三个方面:1)AlN材料可以有效地抬高能带,提高器件的阈值电压;2)AlN介质层可以起到一定的分压作用,使得GaN器件的阈值电压正向漂移,且有利于提高器件的栅耐压;3)原位生长的AlN可以有效地抑制陷阱态的引入,不会对器件的栅可靠性造成较大影响。综上所述,通过引入原位生长的AlN介质层,使得器件的阈值电压从1.8 V正向漂移到3.9 V,正向栅击穿电压从10.0 V提高到17.6 V。利用TDDB测试计算了器件的最大合格栅压,以工作时间10年失效率为63%为判定依据,器件的最大合格栅压从6.1 V提高到了12.1 V。通过漏压应力、栅压应力、开态应力实验对器件的阈值电压稳定性进行研究,定性分析了 AlN介质层的引入对器件阈值电压的影响。本文引入AlGaN材料做为沟道层和缓冲层来改善器件的击穿特性并深入分析不同衬底GaN器件的击穿机理。通过对AlGaN外延材料的缓冲层结构进行优化在Si衬底上获得了电子迁移率为1119 cm2V-1s-1,方阻为777 Ω/□的AlGaN材料外延片。蓝宝石衬底的GaN器件不受纵向击穿的影响,本文在蓝宝石衬底上制备出了击穿电压超过3000V的AlGaN沟道HEMT器件。随后在Si衬底上引入AlGaN材料做为缓冲层和沟道层,改善了器件的纵向击穿和横向击穿特性,获得了击穿电压达到2000 V的AlGaN沟道器件。这两个器件均是目前已报道的同类器件中击穿电压最高的AlGaN沟道器件。本文还提出了一种复合沟道结构的HEMT器件,该器件仿真获得了高于4000 V的击穿电压,并且使用仿真软件分析了器件内各层的电场分布情况以及器件击穿电压提升的机理。目前GaN材料体系的击穿已经被深度挖掘,AlGaN材料的引入有利于推动GaN基HEMT电力电子器件在高压功率开关领域的应用。针对AC-AC双向开关应用,本文提出了三种高性能的GaN双向阻断器件。在器件制备中通过集成肖特基漏结构、蓝宝石衬底、AlGaN沟道技术,本文获得了反向击穿电压超过-3000 V的双向阻断器件。采用Si衬底、无金工艺、AlGaN缓冲层和沟道层、肖特基漏等技术在降低器件成本的同时获得了反向击穿电压达到-2000 V的RBHEMT器件。最后本文基于AlN/p-GaN栅结构,通过采用AlxGa1-xN/超晶格/AlxGa1-xN复合缓冲层结构、低功函数金属的肖特基漏等技术,在Si衬底上制备出阈值电压为3.9 V,开启电压为0.61 V,正向栅击穿为17.6 V,正反向击穿电压为2520/-2480 V,正反功率品质因数为512/496 MW/cm2的增强型双向阻断器件,该器件是目前已报道的RBHEMT器件中功率品质因数最高的器件。GaN基双向阻断器件的研究有利于促进GaN器件在双向功率开关领域的应用。深入研究了极端环境下GaN器件的退化机理。首先分析了基于Si衬底的AlGaN沟道器件的高温特性,对器件的迁移率随温度的变化进行了深入分析,并且在高温下提取了更详细的陷阱态信息,填补了 Si基AlGaN沟道HEMT器件高温特性的研究空白。随后分别在低压/高压工作模式下对GaN器件进行了重粒子辐照实验,深入分析了低压工作模式下单粒子效应所诱导的GaN器件的退化机制和高压工作时器件的失效机制,揭露了高能重粒子辐照引入的线性晶格损伤以及跟随产生的电子空穴对对器件特性的影响