关键词:
集成电路布图设计
专有权
独创性
非常规性
实质性相似
摘要:
随着科技进步和半导体行业的发展,集成电路布图设计已成为一种战略资源,成为国家与国家之间的竞争战场。布图设计创新发展强,则科技进步速度快;科技进步速度快,则国家繁荣昌盛兴。当下,布图设计的侵权现象频繁发生,阻碍着布图设计的创新发展,亟需完善布图设计的知识产权保护体系,优化司法审判路径,提高纠纷解决效率。布图设计的立法规定多集中在2001年,至今无任何修改情况,与如今的国家现状不匹配情况突出。虽然国家知识产权局于2019年颁布了《集成电路布图设计审查与执法指南(试行)》,加强了对布图设计的保护,但是对于布图设计的独创性认定依然困境重重,法院对布图设计侵权判断规则的运用缺乏细化,导致了实践中诉讼困难。另外,在《知识产权强国建设纲要(2021-2035年)》中,更是明确提出需要完善集成电路布图设计法规的计划,走出一条中国特色知识产权发展之路。
本文主要从五个方面进行论述:首先,解释了集成电路和集成电路布图设计的概念,明确布图设计保护对象的实质内涵,分析了布图设计的创作流程以及其具有的知识产权属性,为布图设计为何单独立法提供依据,并梳理了布图设计的登记申请程序、专有权内容以及权利限制。其次,在国家法律法规数据库和北大法宝中检索布图设计立法现状,并分析我国加入的相关国际条约,同时在中国裁判文书网和北大法宝中检索布图设计的司法现状,总结法院在审判侵犯布图设计专有权纠纷的裁判路径。再次,从布图设计的法律规定进行反思,再结合布图设计的立法现状和司法现状,梳理出集成电路布图设计独创性的认定标准不明确、专有权的侵权判定标准模糊等方面问题。复次,梳理美国、欧盟以及韩国三个域外地区对布图设计法律保护经验,对照我国现状,进行本土化适用分析。最后,立足我国布图设计的立法和司法国情,提出完善集成电路布图设计登记申请程序、明确布图设计独创性的认定办法、细化布图设计侵权判断规则中“实质性相似”的内容、区分布图设计不同时间段的保护,以期为我国的布图设计创新发展和知识产权保护提供有益建议。