关键词:
薄膜晶体管
碳纳米管
铟锡锌氧
互补结构
逻辑电路
摘要:
碳纳米管(CNT)在具备高电学性能的同时,还具有高透明度、可弯曲、耐低温、抗辐射等优点,其优越的电学、光学、热学、力学性能可满足高分辨率、透明、柔性等新型显示应用的需求,是有望应用于下一代薄膜晶体管(TFT)技术的有源层材料。但是碳纳米管薄膜晶体管(CNT TFT)的电学性能受沟道中半导体型碳纳米管的纯度及密度的影响很大,且本征的碳纳米管表现为p型导电特性,n型CNT TFT通常存在制备工艺复杂、工艺兼容性差、稳定性较差、电性能低于p型CNT TFT的问题,不利于互补电路的构建。针对以上缺点,本文通过聚合物修饰分离的方法制备出高纯度的半导体型CNTs溶液,通过溶液浸泡沉积的方式制备CNT有源层。通过研究沉积时的温度和时间,制备出了具备优良性能的CNT TFTs,并选用制备工艺简单的铟锡锌氧(ITZO)TFT与CNT TFT构成互补结构,通过探究ITZO TFT的退火工艺使两者的电学性能实现匹配,进而采用互补结构制备出了具有优良性能的反相器、与非门、或非门。具体内容如下:
(1)通过用共轭聚合物PCz修饰碳纳米管,在50000g的相对离心力下离心2.5小时后,分离制备出纯度达到99.9%以上的半导体型碳纳米管溶液,并研究了溶液沉积温度和时间对CNT TFTs电学性能的影响。结果表明,在沉积温度60℃,沉积时间2小时的条件下,沟道中的CNTs具有较优的密度,电学性能最好。在最优条件下,CNT TFT的阈值电压为0.71 V,开关电流比为4.74×10~6,亚阈值摆幅为97 m V/dec,迁移率为19.76cm2/(V·s),并验证了器件性能的均匀性。
(2)利用ITO与ZnO共溅射ITZO有源层的方式制备ITZO TFT,通过调整后退火条件,包括退火温度和退火时间,调整ITZO TFTs的电学性能。结果表明,在350℃下退火1小时具有较优的与CNT TFTs匹配的电学特性,并且在钝化后器件具有较好的稳定性,此时ITZO TFT的阈值电压为0.3 V,开关电流比为1.27×10~7,亚阈值摆幅为90 m V/dec,迁移率为11.98 cm2/(V·s),并与通过HMDS处理后的CNT TFT实现了良好的性能匹配,此时CNT TFT的阈值电压为-0.3 V,开关电流比为4.26×10~4,亚阈值摆幅为103 m V/dec,迁移率为11.66 cm2/(V·s)。
(3)采用CNT TFT与ITZO TFT的互补结构制备的反相器的开关阈值电压为1.05V,静态功耗为3.48×10-10W,最大瞬时功耗为2.08×10-7W,电压增益为34.4,高电平噪声容限为37%VDD,低电平噪声容限为41%VDD,制备的反相器性能有良好的均匀性,并在这个基础上成功制备实现了互补与非门与或非门的逻辑功能。
本论文研究的CNT TFT与ITZO TFT的互补技术,实现了良好性能的基本互补逻辑电路,为CNT TFT互补结构的构建提供了一种解决方案,为后续更大规模互补集成电路的构建奠定了基础。