摘要:
三维集成电路(3D IC)凭借高集成度、短互连距离等优势,成为突破传统平面集成电路物理限制的关键技术,而硅穿孔(TSV)作为3D IC 垂直互连的核心组件,其信号完整性直接决定了电路性能与可靠性。本文系统梳理了 TSV 互连信号完整性的主要影响因素,包括寄生参数、串扰、插入损耗及电源完整性等;详细阐述了时域分析、频域分析和全波电磁仿真等常用分析方法;总结了尺寸优化、布局调整、屏蔽结构设计及新材料应用等优化策略。 后,结合 3D IC 技术发展趋势,指出了 TSV 信号完整性研究面临的挑战及未来方向,为高性能3D IC 设计提供理论参考。 随着摩尔定律逐渐放缓,传统平面集成电路在集成度、功耗和延迟方面的提升遭遇瓶颈。三维集成电路(3D IC)通过将多层芯片垂直堆叠并利用硅穿孔(TSV)实现层间互连,显著缩短了信号传输路径,降低了互连延迟和功耗,同时提高了系统集成度,在人工智能、5G 通信、高性能计算等领域展现出巨大应用潜力。TSV 作为 3D IC 层间信号、电源和接地的核心传输通道,其结构特性直接影响信号传输质量。然而,随着芯片工作频率提升(进入 GHz 乃至更高频段)和 TSV密度增加,寄生效应、串扰、损耗等问题日益突出,导致信号畸变、误码率上升,严重制约 3D IC 的性能发挥。因此,深入分析 TSV 互连的信号完整性问题,探索有效的分析方法与优化策略,成为 3D IC 技术实用化的关键课题。