关键词:
纵向结构晶体管
纳米墙
短沟道效应
轻掺杂漏区
高温
摘要:
随着集成电路产业的快速发展,已进入后摩尔时代,如何突破摩尔定律的极限,成为许多科研工作者的研究方向。根据IRDS预测,GAAFET将会成为未来主流结构器件,但其由于结构限制,仍有沟道长度的物理极限,无法真正突破摩尔定律。本文作者所在课题组提出一种全新纵向结构晶体管:新型3D纳米墙(Nano-Wall Field Effect Transistor,NWaFET)器件,该器件通过引入轻掺杂漏区与沟道区重掺杂的方法,有效地抑制了短沟道效应,使器件的沟道长度可进一步缩短。该器件的提出,是集成电路产业发展中的一次重要创新,为后摩尔时代如何突破摩尔定律的极限提供了一个方向。
首先,本文介绍了NWaFET的基本结构与工作原理,分析其对比传统平面结构器件的优势。区别于利用全耗尽原理来抑制短沟道效应的GAAFET,NWaFET通过沟道区重掺杂与引入轻掺杂漏区,在GAAFET达到理论极限的极短沟道长度下,仍能克服短沟道效应所带来的不良影响。
其次,通过利用Sentaurus TCAD软件,对不同沟道长度下的NWaFET与GAAFET的器件特性进行对比,得到了在沟道长度小于20 nm时,NWaFET各方面性能优于GAAFET,且随着沟道长度的缩短,NWaFET的性能参数有着更高稳定性的结论。同时,为探究高温环境下对NWaFET的性能参数的影响,设定不同的仿真温度,研究NWaFET与GAAFET的性能参数随温度变化的退化程度,在沟道长度为10 nm时,GAAFET的失效温度为388 K,NWaFET的失效温度为424 K,NWaFET对温度的敏感度要弱于GAAFET。
最后,对于NWaFET的工艺实现方式,给出了3种工艺流程以匹配不同的工艺线。针对进行流片实验的工艺流程建立了工艺仿真模型,并对流片实验进行了版图绘制。