关键词:
石墨烯
化学气相沉积
干法转移
量子霍尔效应
Shubnikov-de Haas振荡
异质结
电荷转移
近藤效应
摘要:
量子化电阻是量子霍尔效应的直观体现,它只由基本物理常数决定,而与样品的材料种类、几何形状等因素无关。这一特性使得量子霍尔效应自被发现以来便成为实现电阻标准的理想选择,对计量学的发展具有重要影响。通常情况下,量子霍尔效应需要在极低温和强磁场环境中才能被观测到,但由于石墨烯独特的物理特性,使用石墨烯可以在更加宽松的实验条件下实现量子霍尔效应,这使石墨烯成为下一代量子霍尔电阻标准器件的理想候选材料。目前,国际上制备量子霍尔电阻标准器件所采用的石墨烯,主要通过在碳化硅基底上利用分子束外延法生长得到。本论文聚焦于利用化学气相沉积法生长的石墨烯制备量子霍尔器件,验证其用于量子霍尔电阻标准的可行性。同时,通过对器件中的散射机制进行系统的研究,指明进一步提升器件性能的可行方案。此外,本论文也对石墨烯/反铁磁材料异质结体系进行了探索,希望通过界面耦合作用在石墨烯中调控出量子反常霍尔态,并将其应用于量子计量学。首先,我们利用液态碳源丙酮在铜箔基底上生长出大面积、高质量的单层石墨烯,引入基于氮化硼的干法转移技术来转移连续生长的石墨烯薄膜。干法转移的成功率显著依赖于石墨烯/铜箔界面处铜箔的氧化程度和均匀性。为了优化转移成功率,我们系统比较了不同溶剂对于铜箔的氧化能力,并讨论了铜箔的晶向、氧化温度等参数对氧化结果的影响。最终,通过大量实验总结出在60-70°C饱和水蒸气环境中氧化24 h的石墨烯/铜箔样品,干法转移石墨烯的成功率最高。在上述工作的保障下,我们通过干法转移制备了尺寸超过35μm(尺寸受限于机械剥离的氮化硼的大小)的单层石墨烯器件,为现有报道中的最优结果。此工作对于干法转移连续生长的石墨烯薄膜具有指导意义。接着,我们对利用干法转移工艺制备的石墨烯器件进行了系统的测试。相比传统的铜刻蚀技术(湿法转移),干法转移避免了有机溶剂对石墨烯的污染,器件的电学性能得到极大提升,具体表现为掺杂水平降低约一个量级,室温下迁移率达到12500 cmVs,提升接近5倍,直到室温依然能够观测到显著的量子霍尔效应。在不同器件中,我们均观测到高精度量子化的霍尔电阻台阶,霍尔电阻的测量值与理论值之间的偏差已经小于测量噪声。但是,目前距离应用于量子霍尔电阻标准仍有一定差距,主要体现在难以将=2的量子霍尔台阶出现的位置调节到较小磁场。通过在低磁场下测量Shubnikov-de Haas振荡,我们提取了量子散射时间和输运散射时间,对器件中的散射机制进行了系统的研究。结果表明,在我们的器件中,位于石墨烯表面1.34 nm处的带电杂质是限制器件性能的主要原因。带电杂质的来源可能为石墨烯生长过程中形成的褶皱和转移过程中引入的气泡。此外,我们同样注意到干法转移过程可能会在石墨烯中引入较大的应力,导致载流子分布不均匀并受到掺杂,而对器件进行退火处理可以明显改善上述情况。上述结论为进一步提升石墨烯器件的质量指明方向。最后,我们利用化学气相输运法生长了二维反铁磁材料Mn PSe。利用改进的干法转移工艺制备出Graphene/Mn PSe(以下简写为Gr/Mn PSe)异质结,并对其进行了系统的表征。电输运测试和拉曼光谱表征均证明在Gr/Mn PSe异质结的界面处存在电荷转移,通过对能带排列进行分析,我们认为电荷转移主要由两种材料的功函数差异导致。在Gr/Mn PSe异质结中,我们观测到显著的量子霍尔效应和量子振荡,但未观测到理论预期的量子反常霍尔态以及Mn PSe对石墨烯能带结构的显著影响。我们猜测可能的原因有三个:第一,在Gr/Mn PSe异质结中,石墨烯的晶格与Mn PSe衬底未严格匹配。第二,在Mn PSe晶体中存在一定的磁性杂质或缺陷;第三,Mn PSe与石墨烯之间距离较远导致近邻效应不显著。此外,我们发现Gr/Mn PSe异质结的-特性曲线在20-40 K范围出现电阻极小值,电阻极小值出现的位置远低于Mn PSe的Néel温度(70 K),该现象与此前报道的在其他石墨烯/反铁磁材料异质结中观测到的实验现象具有显著差异。我们的实验数据表明,该现象可能与反铁磁材料中磁性杂质所产生的局域磁矩,在石墨烯中诱导出的近藤效应密切相关。此工作对于理解石墨烯与反铁磁材料之间的相互作用具有重要意义。