关键词:
日盲紫外光电探测器
氧化镓
锌镓氧
石墨烯
核壳结构纳米线
摘要:
日盲紫外探测技术在导弹预警与告警、紫外制导、舰载通讯等国防领域以及电网安全监测、环境监控与生化检测、深空探测等民用领域都有极其重要的应用,是我国迫切需求和重点发展的战略性技术。当前,世界军民用日盲紫外光电探测器的发展主要集中在超灵敏、微型化、集成化等前沿领域。技术需求主要包括更强的信息探测能力、更快的处理速度、更高的集成度、更小的体积、更好的可靠性和环境及抗辐射适应性等。在战略应用方面,提高日盲紫外光电探测器的性能是研究重点。氧化镓(Ga2O3)作为一种新型的宽禁带半导体材料,其禁带宽度高达4.2~5.3 e V,直接对应于日盲紫外波段。然而,纯的、未掺杂的Ga2O3电子迁移率较低,制备出的Ga2O3器件通常表现出较差的导电性,影响日盲紫外探测器的性能。一维纳米材料具有大的比表面积和较小的德拜长度,这些特性能带给器件优异的性能。现在流行的纳米线制备工艺都需要贵金属Au、Pt、Sn等作为催化剂参与。然而,这些催化剂成本过高,并且会把金属污染带入合成过程。因此开发简单、可控、低成本的氧化镓纳米线网制备方法以及制备出灵敏度高、光响应时间快的日盲紫外探测器来满足不同应用领域的需求是目前亟待解决的问题,对于其性能研究和应用开发具有重要意义。
具体研究内容如下:
(1)提出一种自催化制备Ga2O3纳米线网的CVD方法。采用CVD法自催化制备出Ga2O3纳米线网,研究了不同生长时间,压强,温度对Ga2O3纳米线网的影响,研究了Ga2O3颗粒在高温反应中自发沉积在光滑绝缘衬底上成核并各向异性生长成纳米线的机理。该日盲紫外器件的光暗比(I254nm/Idark)约为10~3,响应上升时间和下降时间分别为3.01 s和0.12 s,外量子效率(EQE)约为18.54%,响应度为0.038 A/W,探测率为1.47×1012Jones,分析了其光响应机理并探究了O2气吸附过程对探测器性能的影响。此外,通过测试8组相同生长条件的器件和同一器件3个月之后的I-t曲线,证明该器件具有优秀的可重复性和时间稳定性。总之,自催化生长Ga2O3纳米线网探测器制备工艺通过减少电、人工和生产成本,为通过自底向上的工艺制造大面积纳米级电子产品提供了更优化的方法。
(2)提出一种阵列化制备ZnGa2O4纳米线桥并提高光响应性能的方法。为了提高日盲紫外探测器器件的光响应强度,在第四章通过三元掺杂的方法制备了ZnGa2O4纳米线网,并开发了一种阵列化制备ZnGa2O4纳米线桥的CVD法。在进一步对衬底进行阵列化处理的过程下,使得ZnGa2O4纳米线网的生长变得更加规律,使得自由电子在纳米线间的传输距离变得更近和更加平均。因此,经过阵列化的ZnGa2O4纳米线桥日盲紫外探测器的光暗比约为3.3×10~3,外量子效率约为41.7%,响应度为0.114 A/W,探测率为4.42×1012Jones,响应上升时间和下降时间分别为0.067 s和0.015 s。该器件响应能力全方面高于Ga2O3纳米线网探测器和ZnGa2O4纳米线网探测器。因此,三元掺杂制备阵列化ZnGa2O4纳米线桥的方法可以显著提升器件的光电响应性能。
(3)提出一种两步法制备ZnGa2O4/Ga2O3核壳结构纳米线网的CVD技术。受限于Ga2O3材料较低的载流子迁移率,为了提高Ga2O3材料的光电响应时间,第五章提出一种创新性的两步法CVD生长ZnGa2O4/Ga2O3核壳结构纳米线网的技术。该两步法CVD技术不仅简化了操作,提高了实验效率,还降低了实验成本。ZnGa2O4/Ga2O3核壳结构纳米线网日盲紫外光电探测器光暗比约为15.7,外量子效率为18.04%,响应度为0.037A/W,探测率为1.18×1012Jones,响应上升时间和下降时间分别为0.065 s和0.012 s。其相较于Ga2O3和ZnGa2O4探测器来说,最明显的优势就是其响应时间是Ga2O3纳米线网探测器的1/46以及ZnGa2O4纳米线网探测器的1/10左右。分析了核壳结构对光响应时间的影响机理。核壳结构界面处会产生内建电场,内建电场相当于在材料之间额外增加了偏压,这就更有利于提高光生电子和空穴的分离效率,从而提高响应时间。
(4)提出一种旋涂退火法制备石墨烯修饰ZnGa2O4/Ga2O3核壳结构纳米线网的技术。为了提升ZnGa2O4/Ga2O3核壳结构纳米线网器件的光响应强度,第六章将二维石墨烯和一维ZnGa2O4/Ga2O3核壳结构纳米线网进行复合,制备出石墨烯修饰ZnGa2O4/Ga2O3核壳结构纳米线网日盲紫外光电探测器。通过增加石墨烯与Ga2O3的异质结结构,提高光生电子与空穴的分离效率。退火处理增加了Ga2O3和石墨烯之间的接触。经测试,0.1%浓度的退火石墨修饰ZnGa2O4/Ga2O3核壳结构纳米线网器件综