关键词： 纳米力学   纳米压入实验   纳米硬度仪   微纳电子材料   硬度   弹性模量  

摘要： 随着集成电路器件特征尺寸的不断减小,微纳电子材料的力学性能越来越显著地对器件乃至整个电路的可靠性产生重要影响。因此需要一种行之有效的评价方法来表征这些材料在纳米尺度上的力学性能。本文采用纳米压入实验的方法,分别对集成电路工艺中常用的二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜和铜互连布线中常用的Cu/Ta/SiO2/Si结构的多层薄膜进行了研究。使用纳米硬度仪分别测量了这三种样品的硬度和弹性模量,并对硬度和弹性模量与压入深度、载荷的关系作了分析,讨论了材料在压入过程中的纳米力学行为与材料性能间的关系。此外,对Cu/Ta/SiO2/Si多层薄膜样品,还利用FIB加工了残留压痕的剖面样品,进行了TEM观察和EDX能谱分析,观察到了Ta/SiO2界面在载荷作用下的分层现象,并讨论了引起这一现象的可能原因。 通过对二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜和Cu/Ta/SiO2/Si多层薄膜的研究,评估了纳米压入实验方法作为集成电路制造过程中的在线监测手段的可行性,测试结果在集成电路结构中常见的硬膜硬衬底和软膜硬衬底条件下的可靠性,以及实验中现存的问题和改进的可能性。

关键词： 电子束光刻技术   原理   进展  

摘要： 微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。介绍了近年来电子束光刻技术的研究进展及其在微%纳器件研制中的重要作用。

关键词： 电子束光刻   微纳加工   纳米器件  

摘要： 电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形。随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值。本文以几种常见的电子束曝光机为例,说明电子束光刻的工作原理和关键技术,并给出一些它在纳米器件和微纳加工方面的应用实例。

关键词： 纳米加工   纳米器件   微纳加工技术   光学光刻技术  

摘要： 微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,光学光刻技术依然是目前的主流微纳加工技术,同时有多种替代技术如电子束直写、极紫外光刻和投影电子束技术,文章介绍了自上而下的微纳加工技术的进展及其在微纳器件研制的重要作用.

关键词： 纳米光电子器件   电子束光刻   电感耦合等离子体刻蚀   量子点器件   光子晶体  

摘要： 纳米光电子器件正在成为下一代光电子器件的核心.文章介绍了电子束光刻和电感耦合等离子体刻蚀为代表的微纳加工技术在光电子学器件中的应用,主要包括量子点激光器、量子点THz探测器和光子晶体器件.

ISBN: (纸本)750256506X