关键词:
硅烯
石墨烯
能隙
器件
量子输运
摘要:
摩尔定律表明:集成电路上可容纳的元器件数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。目前硅基半导体场效应晶体管尺寸已经缩短至亚10 nm,下一个十年晶体管的沟道长度要降至5 nm,由于显著的短沟道效应,其性能提升正趋于物理极限。目前广泛研究的二维半导体材料拥有独特的物理性质,已成为当今纳米交叉学科的研究热点,其中,石墨烯由于其零能隙、低电导率、常温下的高电子迁移率及量子霍尔效应和独特的光吸收等优良特性,引发人们的研究热潮。石墨烯的成功制备开启了一扇基于二维体系实验和理论研究的大门,但其固有的“零能隙”特点限制了它在微纳电子学中的应用。拓展研究更多二维新型半导体材料,设计新的结构和器件成为凝聚态物理和纳米材料科学研究的一个重要部分。
论文主要运用密度泛函理论的第一性原理方法研究打开硅烯和石墨烯能隙的方法(包括硅烯半氢化、挖洞和石墨烯掺杂h-BN方法),研究其电子结构性质;结合非平衡格林函数方法计算以半氢化硅烯为沟道的自旋过滤器件和以硅烯纳米网和h-BN掺石墨烯为沟道的场效应晶体管器件的量子输运性质,并与国际半导体技术路线图(International Semiconductor Technology Roadmap,缩写为ITRS)中的器件参数进行对比。研究结果为硅烯和石墨烯在半导体器件中的应用提供理论支持,获得的主要结果如下:
(1)通过分子动力学计算,发现硅烯半氢化后,在室温下结构可稳定存在。分析半氢化硅烯的三种磁状态(铁磁态、反铁磁态和非磁态)的能量和磁矩大小,表明铁磁态总能量最低为基态,而且每个原胞中未氢化的硅原子拥有1μB的磁矩,而氢化的硅原子和氢原子几乎没有磁矩。能带计算表明,由于硅烯两个Si子格间的对称性被打破,从而产生能隙,采用HSE06计算能隙值为1.96 e V。从态密度分布图中显示,在Fermi能附近存在两个自旋极化方向相反的峰。采用半氢化硅烯为沟道材料构造单门自旋过滤器件,计算不同栅极长度器件的电输运性质。在偏压为0.2 V下,器件电流开关比达到10~6,电流转移曲线亚阈值摆幅为90 m V/dec;通过器件透射谱分析,通过栅压可调节自旋过滤器件自旋向上和向下的电流值,随着栅压增加至1.9 V,器件电流自旋过滤效率达到100%,对于实现器件的自旋注入,半氢化硅烯材料比铁磁性金属材料更具有优势,拓展了硅烯在自旋电子学领域的应用。
(2)计算表明,通过在硅烯中挖洞(至少去掉一个六角硅环形成纳米网结构,此时记为R=1)可打开硅烯的能隙,打开能隙的大小程度由孔壁宽度(孔孔之间的硅链条数,记为W)决定,W为偶数时,产生直接能隙,最大能隙为0.677 e V;当W是奇数时,表现为与原始硅烯类似的半金属性;相同孔径(R)下的能隙随着W的增大而减小。选取[R=1,W=2]结构的硅烯纳米网作为栅极材料,构造不同栅极长度的场效应晶体管并计算器件电输运性质,其中,9.1 nm栅极长度(该长度与ITRS 2022高品质逻辑器件要求的8.9 nm栅极长度相接近)的单门FETs器件,在偏压0.2 V和栅压0.5 V下,器件电流开/关比达到5.1×10~4,满足高速逻辑器件10~4~10~7的要求;9.1 nm栅极长度的硅烯纳米网场效应晶体管器件增加为双门后,在偏压为0.72 V时,开态电流提高到3122μA/μm,满足国际半导体技术路线图2022年对高品质器件参数要求(1350μA/μm)。
(3)研究了h-BN掺杂石墨烯体系(BNC)的电子结构性质和构造的场效应晶体管器件的输运性质。石墨烯中掺杂h-BN可打开其能隙,产生能隙的原因源于电荷重新分配后引起的电势局域对称性破坏,[R=1,W=2]结构(最小六角BN记为R=1,BN之间的碳链条数,记为W)的h-BN掺石墨烯计算能隙值为1.07 e V,以这种结构构造h-BN掺石墨烯场效应晶体管器件,在ITRS标准要求的2025年场效应晶体管工作偏压0.68 V下,计算了不同栅极长度场效应晶体管器件的电流转移特性曲线,不同栅极长度器件的开态电流在125~192μA/μm之间,电流开关比在1.3×10~3~1.9×10~3之间,亚阈值摆幅都比较小,计算结果与实验中碳纳米管、高级硅和ETSOI FETs器件各项参数进行比较,多项参数具有优势。通过在垂直方向施加一个外力,曲面结构转变为平面结构,实现h-BN掺杂石墨烯FETs器件电流的“开关”效应。