关键词:
磁电耦合
量子反常谷霍尔效应
能谷极化
电子关联效应
高陈数
铁电极化
摘要:
磁电耦合效应是指磁性和电极化两种物理量之间的相互关联,即电场调控磁性质,或磁场调控电极化性质的现象,这种交叉调控源于晶格、电荷和自旋等多个自由度的协同作用,推动了存储技术的革新发展。此类磁电耦合器件不仅显著提升存储密度,还能降低能耗,为新型高密度、低功耗存储器件开发提供技术支撑。磁性能够打破时间反演对称性,诱导量子反常霍尔效应的出现。量子反常霍尔效应在零磁场条件下就能表现出量子化的霍尔电导,摆脱了传统量子霍尔效应对强磁场的依赖,是霍尔家族中的重要一员。量子反常霍尔效应的表现为材料体态是绝缘的,而边界处因拓扑保护出现了手性边缘态。这种“内部绝缘,边界导电”的特点是由能带的拓扑性质决定的,使电子能够沿边缘态进行无耗散输运,极大推动了器件的小型化和低损耗。本文的主要研究内容及结论如下:
(1)将拓扑和能谷物理在同一体系中进行调控极具挑战性。基于密度泛函理论和紧束缚模型,我们设计了一种新型二维六角晶格单层VCGeN4,磁基态为铁磁态。当不考虑自旋轨道耦合(SOC)时,单层VCGeN4是一个直接带隙半导体,在导带底部和价带顶部都出现了能谷,表明它是一种潜在的铁谷材料。当考虑SOC,且磁轴沿+Z方向时,由于空间和时间反演对称性的破缺,单层VCGeN4出现了自发能谷极化。通过施加应变调控,能够诱导出量子反常谷霍尔效应,位于两个半谷金属态之间。量子反常谷霍尔效应,通过能谷自由度引入额外的对称性保护机制,进一步增强了量子态对外界缺陷和电磁干扰的鲁棒性。当磁轴方向翻转到-Z方向时,单层VCGeN4的边缘态具有相反的手性,展现了手性自旋-能谷锁定的有趣现象。本工作提出的具有自旋-能谷与拓扑物理耦合的单层VCGeN4,为低功耗量子器件的设计与开发提供了物理基础和候选材料。
(2)对于包含d电子过渡金属原子的二维材料,电子关联效应会对它们的磁性、拓扑及能谷性质产生重要影响。基于第一性原理,我们设计了新型二维六角晶格单层OsClBr,其具有本征的面外磁各向异性,能够诱导自发的能谷极化。电子关联效应能够驱动体系发生拓扑相变,相变过程为:铁谷态-半谷金属态-量子反常谷霍尔效应-半谷金属态-铁谷态。在单层OsClBr中,Os原子dxy/dx2-y2和dz2轨道之间的翻转,诱导出了非平庸的拓扑态。我们发现了一种通过改变磁轴方向调控单层OsClB能谷特征的有效策略。把单层OsClBr与铁电材料Al2S3搭建了多铁异质结,探索了其磁电耦合性质。Al2S3铁电极化方向的翻转能够诱导半导体到半金属的转变。单层Al2S3自发极化产生的内建电场会导致两侧产生静电势差,单层OsClBr与不同极化方向的单层Al2S3接触时,在异质结OsClBr/Al2S3的界面处,会发生电荷转移。本工作为设计先进的能谷电子学器件与多铁器件提供了可借鉴方案。
(3)高陈数量子反常霍尔效应具有更多的无耗散手性边缘态,可显著提升器件性能。我们利用密度泛函理论,构建了新型四角晶格单层Fe2SSeX2(X=Ga,In,T1),磁基态都为铁磁态,具有良好的稳定性。当不考虑SOC时,在费米能级附近的能带显示出交叉性质,具有100%自旋极化,单层Fe2SSeX2为Weyl半金属。当考虑SOC,且磁轴沿+z方向时,Mx和My镜面对称性被打破,Weyl点消失,可以观察到两条无带隙的手性边缘态连接了导带和价带,表明单层Fe2SSeX2能够实现高陈数量子反常霍尔效应。改变磁轴方向,单层Fe2SSeX2能够实现高陈数量子反常霍尔效应和Weyl半金属的转换。单层Fe2SSeGa2和Fe2SSeIn2的易磁轴方向通过双轴应变能够由面内调控到面外,因此可以自发出现非平庸的拓扑相。我们的研究为探索高陈数量子反常霍尔效应和开发高性能纳米器件提供了候选材料。
(4)许多关于能谷的研究都集中在单层体系,而关于双层能谷材料的研究较少。将二维材料的能谷特性与其他物理性质结合起来,会产生丰富而新颖的现象。我们研究了双层RuBr2在2H和3R堆叠下的物理性质。双层RuBr2存在六种典型的堆叠结构,磁基态都为反铁磁态。对于双层RuBr2来说,AA-1、AA-2和AB-1结构是稳定的。通过晶体对称性和平面平均静电势的分析,证实了 AA-1和AA-2结构的双层RuBr2具有面外铁电极化。AA-1和AA-2结构在价带顶部都产生了 24 meV的能谷极化。我们发现能谷、铁电极化与反铁磁态可通过双层RuBr2实现耦合。基于磁电耦合效应,设计了四种不同的铁电-反铁磁结构,为实现多态存储提供了可能性。