关键词:
量子点
钙钛矿
电致发光二极管
喷墨印刷
三元溶剂工程
层间侵蚀
界面工程
薄膜调控
摘要:
量子点(Quantum Dots,简称QDs)显示及其印刷显示作为“十三五”与“十四五”期间国家重点战略布局的新一代信息技术,有望使我国在显示行业摆脱材料和技术长期面临国外专利垄断的落后局面。量子点因其在照明和显示领域的广阔应用前景而备受关注。通过小面积旋涂法制备的红/绿镉基和钙钛矿量子点发光二极管(Quantum Dot Light-Emitting Diodes,简称QLEDs)的外量子效率(External Quantum Efficiency,简称EQE)已经超过20%。目前,蓝光效率的提高、电致发光器件的稳定性、像素图案的制备技术等是制约量子点发光技术走向工业应用的最大障碍。喷墨打印技术被认为是下一代电致发光量子点显示技术中最有前途的、低成本和大规模的图案化QLED的制造技术之一。然而,目前还没有系统地研究适用于该印刷工艺的钙钛矿量子点墨水、喷墨技术、成膜工艺和印刷器件。
因此,研究墨水与承印层之间的相互作用,厘清印刷QLED器件效率低于相同结构旋涂器件的原因,并进一步开发通用的高质量和稳定的量子点墨水是推动该技术走向实际应用的关键步骤。为了解决喷墨印刷QLED器件中存在的问题,本论文采用溶液法合成的镉基和钙钛矿量子点,并选择合适的空穴传输层,通过表界面工程和薄膜缺陷调控,构建了高性能的喷墨印刷电致发光器件。本学位论文的研究内容包括以下三个方面:
1)抑制喷墨印刷过程中的界面侵蚀效应,构建高效喷墨印刷制备的镉基QLED器件。针对使用相同的聚合物空穴传输层的旋涂与喷墨印刷器件中存在的显著差异,系统研究了聚[(9,9-二正辛基芴基-2,7-二基)-alt-(4,4'-(N-(4-正丁基)苯基)-二苯胺)](Poly[(9,9'-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'-(N-(4-sec-butyl))di-phenylamine,简称TFB)、聚[N,N'-双(4-丁基苯基)-N,N'-双(苯基)联苯胺](Poly(N,N'-bis(4-butylphenyl-N,N'-bis(phenyl)benzidine,简称Poly-TPD)、聚乙烯咔唑(Poly(9-vinlycarbazole,简称PVK)三种空穴传输材料(Hole Transport Materials,简称HTMs)以及用于喷墨印刷的常用溶剂与新优化的喷墨印刷溶剂(环己基苯/茚满)之间的相关侵蚀问题。结果显示,PVK表现出优异的耐溶剂性,在PVK层上喷墨打印的红色QLED器件的电流效率为28.80 cd·A,相应的最大EQE超过17.00%。此外,由于TFB和Poly-TPD的耐溶剂性较差,使用它们作为空穴传输层制备的喷墨打印QLED器件的最大EQE分别降低到0.20%和1.90%。本研究结果表明,不同结构的聚合物传输层材料在喷墨印刷QLED器件中表现出不同的耐溶剂性,同时也对器件性能产生了重要影响。
2)管控界面承印层的分子工程和印刷量子点薄膜缺陷,构建高效稳定的喷墨印刷镉基QLED。研究了三种分子量的PVK空穴传输层材料,其中平均分子量为5 M至10 M g·mol的m-PVK由于其合适的最高占据分子轨道(Highest Occupied Molecular Orbital,简称HOMO)能级和高空穴迁移率,所制备的旋涂器件具有最高的效率。这表明聚合物HTM的分子量对QLED的器件性能起着至关重要的作用。因此,m-PVK被选为下一步喷墨印刷中的承印材料,用于制备喷墨印刷的量子点薄膜和随后的印刷QLED器件。此外,通过低压辅助热退火工艺对印刷的量子点薄膜的质量进行了调控,获得了具有低表面粗糙度、有序堆积、高光致发光和良好电荷传输特性的高质量量子点薄膜。随后,在喷墨印刷的红色和绿色QLED中分别实现了23.08%和22.43%创纪录的高EQE,其工作寿命为343,342 h@100 cd·m和1,500,463 h@100 cd·m。这些结果为实现高效和稳定的喷墨打印QLED提供了一个实用的解决方案。
3)采用三元墨水配方改善印刷薄膜的表面形貌并减少表面缺陷,构建了高效喷墨印刷的钙钛矿QLED。对用于喷墨印刷的钙钛矿量子点墨水的配方设计进行了深入研究,并在溶解性、印刷适印性和稳定性等方面进行了优化,形成了为连续喷墨打印量身定制的高稳定性的三元墨水溶剂。通过调控三元墨水的比例来抑制“咖啡环”效应,建立了相应的溶剂挥发和成膜模型。与二元溶剂(萘烷和正十三烷)相比,所设计的三元溶剂(萘烷、正十三烷和正壬烷)墨水配方表现出更优越的印刷适印性和成膜能力,从而印刷制备出质量更好、表面缺陷更少的钙钛矿量子点薄膜。将低沸点、高挥发性的正壬烷溶剂加入到二元钙钛矿量子点墨水中,可以在挥发过程中产生更多的马兰戈尼(Marangoni)流