关键词:
二维VSi2N4-MoSi2N4磁性异质结
光生电流效应
自旋电子学
量子输运
第一性原理计算
摘要:
二维磁性半导体材料中的光生电流效应(photogalvanic effect)可产生纯自旋流、完全自旋极化的光电流,在自旋电子学领域具有应用潜力,激发了广泛的研究兴趣。其中,光生电流效应的自旋输运性质是一个重要的研究课题。有实验表明,电极是影响光生电流效应的重要因素,但目前的研究鲜有涉及电极对磁性器件中光生电流效应的影响以及对光电流自旋输运性质的调控。针对这一问题,本文采用量子输运方法研究二维磁性异质结中的光生电流效应,主要探讨电极对光电流自旋输运性质的调控规律和机理,本文的研究内容和结果如下:
提出了2种基于二维VSi2N4-MoSi2N4-VSi2N4(V-Mo-V)和Nb Si2N4-MoSi2N4-Nb Si2N4(Nb-Mo-Nb)磁性面内异质结的光电探测器模型。其中二维磁性半金属V(Nb)Si2N4为电极,光照在二维非磁性半导体MoSi2N4上。这2种异质结都属于C2v点群,没有空间反演对称。因此在偏振光均匀照射下能够产生光生电流效应。研究表明,在光子能量为1.8-3.2 e V的线偏振光照射下,可激发显著的光生电流效应。对于这2种异质结,光电流随偏振角度及入射角度呈余弦变化关系,而且在特定光子能量及偏振角度下,可获得纯自旋流、高消光比和自旋阀效应。相较而言,V-Mo-V器件的光电流比Nb-Mo-Nb的光电流高一个数量级,且具有几乎100%的自旋极化率,展现了完美的自旋滤波效应。这是因为VSi2N4电极的功函数小于MoSi2N4的功函数,导致MoSi2N4自旋向上的能带向下弯曲,因而光激发的电子从MoSi2N4输运到电极没有势垒,而自旋向下的能带则向上弯曲,电子隧穿势垒较大,故自旋向上的光电流远大于自旋向下的光电流,使得光电流的自旋极化率近乎100%。而对于Nb-Mo-Nb器件,Nb Si2N4的功函数大于MoSi2N4的功函数,使得MoSi2N4自旋向上和自旋向下的能带均向上弯曲,因此电子隧穿势垒较大,产生的光电流远小于V-Mo-V器件,且自旋极化率较低。此外,当用WSi2N4替换MoSi2N4时,仍然能得到类似的结果。
本文的研究结果表明,二维磁性V-Mo-V和Nb-Mo-Nb光电探测器在线偏振光的照射下可产生显著的光生电流效应,选取具有合适功函数的磁性电极可有效调控光电流的大小和自旋极化率。这些研究结果为设计低能耗、多功能的二维自旋电子器件提供了理论参考。