关键词:
MBE技术
生长条件
InAlAs/AlGaAs量子点材料
变温光致发光谱
摘要:
该工作利用MBE技术制备了高质量的InAlAs/AlGaAs量子点材料,并对其生长条件、结构和光学性质进行了系统的研究,取得的主要如果如下:(1)通过在GaAs(001)衬底上InAlAs/AlGaAs量子点材料的生长研究,得到了临界厚度与InAlAs中In组份、生长温度以及AlGaAs 中A1组份的关系曲线;在实验中首次观察到界面张量对应变异质外延临界厚度的影响;(2) 首次对GaAs高指数面衬底上外延生长的InAlAs自组织量子点进行了研究,并在(311)B GaAs 衬底上获得了排列有序且发光效率很高的InAlAs红光量子点;(3)发现在GaAs(001)衬底上InAlAs量子点的光致发光谱存在明显的双峰结构,其AFM测试结果表明,量子点的横向尺寸也 出现双模分布;(4)首次在实验上观察到在自组织量子点中量子限制作用诱导的г-X转变; (5)提出采用应力诱导自组织量子点的有序拉长形成无位错的纳米量子线的新方法;(6)测量了多层In<,0.55>Al<,0.45>As/Al<,0.5>Ga<,0.5>As量子点的变温光致发光谱,同时观察到 来自浸润层和量子点的发光,并对其发光行为进行了系统地分析研究.